渦輪分子泵應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

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產品簡介

渦輪分子泵應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

詳細介紹

渦輪分子泵應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一種利用激光對物體進行轟擊, 然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統(tǒng)由多個真空腔體組成, 整個系統(tǒng)需要超高真空且不能引入任何雜質, 對環(huán)境的清潔度要求較高, 必須配備無油干泵和分子泵抽真空. 由于各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小, 清潔無油（前級泵配備干泵) , 抽速快, 極限真空度高達 10-11mbar 等優(yōu)點廣泛應用于此設備.

上海伯東脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例：某大學電信系脈沖激光沉積系統(tǒng)
1. 系統(tǒng)功能：主要用于 Mn 氧化物等復雜材料膜。
2. 渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-⁶pa
3. 樣品尺寸: 6英寸
4. 基片旋轉, 加熱溫度：750℃
5. 膜生長控制模式: 鍍率 / 厚度 / 時間控制模式
Pfeiffer 渦輪分子泵
真空系統(tǒng)配置:超高真空系統(tǒng)配置:

	渦輪分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	渦輪分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	隔膜泵 MVP 040 口徑: G1/4” 極限真空: ≦5 mbar 抽速: 2.3 m³/h

Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時! 普發(fā)分子泵提供復合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>

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